Exposição excessiva ao flúor pode danificar os dentes

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Saúde da família

O flúor é adicionado à água para ajudar a reduzir a incidência de cáries nos dentes. Contudo, a exposição excessiva ao flúor pode danificar os dentes, prejudicando a capacidade das células do esmalte de absorver e armazenar cálcio, num processo conhecido como fluorese.

Em descobertas publicadas na Science Signaling, pesquisadores Faculdade de Odontologia da Universidade de Nova York, nos Estados Unidos, expandiram sua compreensão de como a fluorose se desenvolve.

A fluorose, ou superexposição ao flúor na infância, pode resultar em danos ao esmalte dos dentes, o revestimento que protege os dentes de produtos químicos em alimentos e bebidas que causam cáries e, finalmente, cáries.

Os pesquisadores analisaram os efeitos da exposição de células de esmalte dentário retiradas de roedores ao flúor em níveis na extremidade superior da faixa encontrada na maioria das águas potáveis ​​norte-americanas: 1,2 miligramas por litro e acima. Os níveis que eles usaram correspondiam aos encontrados em áreas onde a fluorose é mais comum.

Em geral, os pesquisadores relatam que a exposição das células do esmalte a quantidades maiores de flúor interrompeu sua capacidade de absorver e armazenar cálcio, necessário para fortalecer dentes e ossos. Os pesquisadores também observaram que o excesso de flúor retarda o desenvolvimento das células do esmalte, afetando negativamente a capacidade do esmalte de rejuvenescer e fortalecer-se.

Os pesquisadores repetiram seu experimento usando células renais em estágio inicial de humanos, mas não observaram os mesmos efeitos quando as células renais foram expostas ao flúor. Isso indica que as células do esmalte são diferentes das células que formam tecidos em outras partes do corpo.

Para os autores, são necessárias mais pesquisas sobre como as células do esmalte dental lidam com a exposição excessiva ao flúor e como elas diferem de outras células do corpo ao lidar com o estresse imposto pelo fluoreto.

Fonte: Science Signaling. Vol. 13, Issue 619, eaay0086. DOI: 10.1126/scisignal.aay0086.

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